基于臭氧纳米气泡的羟基化石墨烯制备及结构表征
关键词:羟基化石墨烯;臭氧纳米气泡;臭氧;氧化
摘 要: 采用分散剂加超声的手段对天然鳞片石墨进行剥离得到石墨烯,然后分别经常规臭氧(O3)氧化和水力空化形成的臭氧纳米气泡(O3NBs)氧化处理制备羟基化石墨烯(G-OH)并进行对比。通过原子力显微镜、zeta 电位、X 射线光电子能谱及拉曼光谱测试对样品进行了结构、形貌、电位及谱学分析。结果表明,经两种氧化方式处理后的石墨烯薄片厚度为 3~4 nm;经 O3 氧化处理后的石墨烯表面官能团与未经处理石墨烯相似 ;与 O3 相比,O3NBs 的氧化效能更高,经其处理后的石墨烯羟基化程度更高,同时在石墨烯的芳香环中引入了少量羰基,使得 O3NBs 制备的G-OH 同时具有羟基和羰基功能。